Digitale „Themenwoche Studienzweifel“ vom 5. bis 8. Juli

Juli 2, 2021
Allgemein, Aus- und Weiterbildung

Im Rahmen des Verbundprojekts „Campus OWL – Chancen bei Studienzweifel und Studienausstieg“ laden die Fachhochschule Bielefeld, die Technische Hochschule Ostwestfalen-Lippe sowie die Universitäten Bielefeld und Paderborn vom 05. bis 08. Juli 2021 zur digitalen Themenwoche Studienzweifel ein.

Die Angebote der Themenwoche richten sich an Studierende der vier Hochschulen, die an ihrem Studium zweifeln, auf der Suche nach einer Alternative zum aktuellen Studiengang sind oder einfach nach Tipps und Tools suchen, um das Studium erfolgreich fortzuführen.

Die Themenwoche wird von den vier Hochschulen und deren Kooperationspartnern – darunter die IHK Ostwestfalen zu Bielefeld – gemeinsam ausgerichtet. Alle Veranstaltungen sind für alle Studierende der vier Hochschulen geöffnet.

Weitere Informationen zum Programm erhalten Sie hier.

Weitere Themen

Importeure von Paketen mit geringem Wert müssen Mehrwertsteuer in Höhe von 15 Prozent zusätzlich zu dem pauschalen Zollsatz zahlen müssen.

Umwelt & Energie

Info-Veranstaltung am 18.12.2025: „KI, Regulatorik und Fachkräftemangel – Wie sich der Einkauf in den nächsten Jahren neu aufstellen muss“

„KI, Regulatorik und Fachkräftemangel – Wie sich der Einkauf in den nächsten Jahren neu aufstellen muss“, Informationsveranstaltung am Donnerstag, 18.12.2025, 15:30 Uhr bis 17:00 Uhr im Ostwestfalen-Saal der IHK in Bielefeld.

Innovation & Technologie

Praxis-Workshop „Digitale Sichtbarkeit für Spezialanbieter“ am 4. Dezember 2025

Im Rahmen des Workshops werden Sie zentrale, strategische Überlegungen kennenlernen, die Ihnen helfen, Ihre Website und Ihr digitales Marketing für die Akquise von Wunschkunden wirkungsvoller ausrichten zu können. Dabei geht es vor allem um Klarheit in der Ansprache neuer Kunden und den gezielten Aufbau von Vertrauen und Reputation über digitale Kanäle, so dass sich dieser Praxisworkshop an die Geschäftsführung von spezialisierten B2B-Unternehmen richtet.