Nanometerfeine Strukturen aus Quarzglas, die sich direkt auf Halbleiterchips drucken lassen, erzeugt ein am Karlsruher Institut für Technologie (KIT) entwickeltes Verfahren. Ein hybrides organisch-anorganisches Polymerharz dient als Ausgangsmaterial für den 3D-Druck von Siliziumdioxid. Da das Verfahren ohne Sintern auskommt, sind die dazu erforderlichen Temperaturen deutlich niedriger. Zugleich ermöglicht eine höhere Auflösung Nanophotonik mit sichtbarem Licht. Das Forschungsteam berichtet in der Zeitschrift Science. (DOI: 10.1126/science.abq3037)
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Innovation & Technologie
Einladung zur Fachveranstaltung „Industrielle Abwärme clever nutzen“ am 30.09.2025
Steigende Energiekosten und neue gesetzliche Vorgaben wie das Energieeffizienzgesetz (EnEfG) stellen Unternehmen vor die Aufgabe, ihre Prozessabwärme gezielter zu erfassen und zu nutzen. Die Veranstaltung am 30.09.2025 zeigt auf, welche Anforderungen auf Unternehmen zukommen und welche technischen und digitalen Möglichkeiten zur Verfügung stehen.
