Forscher-Team von ZEISS, TRUMPF und Fraunhofer für die Entwicklung der EUV-Lithographie mit dem Deutschen Zukunftspreis 2020 ausgezeichnet

November 27, 2020
Innovation & Technologie

Die EUV-Lithographie ermöglicht Chips für modernste Smartphones und automatisiertes Fahren. Als weltweit führende Fertigungstechnologie stärkt sie die deutsch-europäische Position im globalen Halbleitergeschäft. Ein Forscher-Team bestehend aus Experten von ZEISS, TRUMPF und Fraunhofer wurde jetzt für ihr Projekt „EUV-Lithographie – Neues Licht für das digitale Zeitalter“ von Bundespräsident Frank-Walter Steinmeier mit dem Deutschen Zukunftspreis 2020 ausgezeichnet.
Weiterlesen: https://www.fraunhofer.de/de/presse/presseinformationen/2020/november/forscher-team-von-zeiss-trumpf-und-fraunhofer-fuer-die-entwicklung-der-euv-lithographie-mit-dem-deutschen-zukunftspreis-2020-ausgezeichnet.html

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